在日前于美國硅谷舉行的美國半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì )（SIA）年度晚宴上，來(lái)自半導體大廠(chǎng)的資深高層們表示，芯片產(chǎn)業(yè)還有很長(cháng)一段路要走，卻面臨了吸引頂尖工程師的真正挑戰；此外一位微影技術(shù)專(zhuān)家展示了可望在下一個(gè)十年繼續推動(dòng)摩爾定律（Moore’s Law）前進(jìn)的一套新系統。

晶圓代工大廠(chǎng)臺積電（TSMC）董事長(cháng)張忠謀在SIA年度晚宴的一場(chǎng)與其他產(chǎn)業(yè)界高層同臺的座談會(huì )上，對半導體制程節點(diǎn)繼續微縮表示樂(lè )觀(guān)；不過(guò)他也建議，芯片產(chǎn)業(yè)逐漸邁向成熟，年輕一代的電子工程師可以朝向軟件、電腦科學(xué)以及網(wǎng)際網(wǎng)路等相關(guān)領(lǐng)域尋求未來(lái)發(fā)展。

“對晶圓廠(chǎng)工程師的人力需求會(huì )維持相當穩定好一段時(shí)間，”張忠謀表示：“我們對更高密度制程的努力還會(huì )至少持續另一個(gè)十年，一直到2020年代中期、3nm節點(diǎn)─ ─我認為我們至少將走到那么遠?！?/p>

另一位參與座談會(huì )的產(chǎn)業(yè)高層，ADI共同創(chuàng )辦人Ray Stata則表示，電子工程領(lǐng)域正籠罩危機，但在芯片制程微縮之外仍有科技進(jìn)展的希望：“EE部門(mén)正在萎縮，但我們還是需要受過(guò)訓練的人員；而我們面臨的挑戰之一，就是無(wú)法獲得像以前那么多的EE工程師人才。因此產(chǎn)業(yè)界可能需要承擔更多教育的責任，并且直接與各大專(zhuān)院校面對面，讓他們了解產(chǎn)業(yè)界需求?！?/p>

Stata指出，在美國麻省理工學(xué)院（MIT）有一個(gè)育成中心，就是協(xié)助支持對半導體新創(chuàng )公司的投資；這位已經(jīng)轉任投資人的前任半導體業(yè)高層表示，現有技術(shù)在系統層級的結合，將有助于讓以往聚焦于零組件的電子產(chǎn)業(yè)界更進(jìn)步：“智能手機已經(jīng)存在了…但模擬領(lǐng)域還在過(guò)渡時(shí)期的中途?！?/p>

英特爾（Intel）前任CEOCraig Barrett則是與會(huì )者中對未來(lái)最樂(lè )觀(guān)的?！半娮优c光子的結合才剛剛開(kāi)始，而且那里有非常大的商機；”他指出：“電子與生物的結合甚至還沒(méi)有開(kāi)始──到處都有無(wú)限的商機?！?/p>

“當我加入Intel的時(shí)候，人們就說(shuō)摩爾定律已經(jīng)快走到尾聲，我們一直都只有3~4代的技術(shù)進(jìn)展空間；”Barrett表示：“總有人將會(huì )搞清楚如何做出下一代的電子開(kāi)關(guān)，而且將改變世界；因此就像是Robert Noyce （Intel共同創(chuàng )辦人）說(shuō)的，忘掉歷史、走出去，做一些美妙的事?！?/p>

而獲得SIA年度Noyce獎項的半導體設備大廠(chǎng)ASML技術(shù)長(cháng)Martin van den Brink則在會(huì )后透露，該公司承諾在2024年推出具備0.45 penta-pixels/second性能的極紫外光（EUV）微影系統； ASML最近宣布將推出的高數值孔徑系統，一小時(shí)可生產(chǎn)200片晶圓。

相較之下，在1958年制造出來(lái)的第一顆IC，所采用的微影技術(shù)只能印制50 pixels的圖案；van den Brink表示，那時(shí)候ASML已經(jīng)成立，而他在1984年加入該公司時(shí)，微影技術(shù)的性能已經(jīng)達到61 MPixels/second：“摩爾定律不會(huì )停止，因為我們有聰明的工程師正在嘗試繼續推動(dòng)產(chǎn)業(yè)界向前邁進(jìn)?！?/p>

IBM的感知系統部門(mén)資深副總裁暨研究員JohnKelly III在授予van den Brink先進(jìn)微影技術(shù)獎項時(shí)表示：“沒(méi)有他，我們恐怕無(wú)法讓摩爾定律走得這么遠，也無(wú)法對邁進(jìn)7nm或以下節點(diǎn)抱著(zhù)希望；Martin以及他的公司現在面臨的最大風(fēng)險與最重要工作是EUV，而該技術(shù)在過(guò)去幾年的進(jìn)展令人驚嘆?！?/p>