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二維材料層間的二維半導體結

2020-05-19 12:01:49 142

目前,基于原子層厚度的二維材料的電子器件和光電器件,其設計思路主要來(lái)自于目前的半導體工業(yè)概念和技術(shù)。然而,由于二維材料自身的脆弱結構和敏感表面,在二維材料構建的傳統半導體結無(wú)論是工藝上還是設計上變得非常的復雜。因此,尋找一種新的結,使其能夠實(shí)現二維材料半導體器件的應用是很有必要的和急迫。


基于此出發(fā)點(diǎn),蘭州大學(xué)的謝二慶教授和美國Rice University的Pulickel Ajayan教授合作,研究發(fā)現二維層狀過(guò)渡金屬硫屬化合物(TMDCs)材料不同層間存在一種新型的半導體結,并且這種結能體現出優(yōu)異的整流特性(Iforward/Ireverseratio of 81)和光伏特性(OCV of 148 mV)。同時(shí),這種結制備簡(jiǎn)單和來(lái)源豐富,通過(guò)化學(xué)氣相沉積能夠實(shí)現太陽(yáng)能電池陣列的制備,大大優(yōu)于目前基于機械堆垛的二維層狀p-n結。通過(guò)南京航天航空大學(xué)的張助華教授理論計算和美國Rice University的Naomi


J.Halas的Scanning photovoltage and photocurrent mapping對機理的進(jìn)一步分析證實(shí)這種結來(lái)源于不同層的層間能帶帶偏(band offset),而這種帶偏是一種typeⅡ能帶結構。這種結是二維材料與生俱來(lái)的性質(zhì),其廣泛來(lái)源和簡(jiǎn)單工藝也為二維材料在工業(yè)化和商業(yè)化方面帶來(lái)巨大的前景。


標簽: pcba

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